真空燒結爐主要用于半導體元器件及電力整流器件的燒結工藝。可進行真空燒結，氣體保護燒結及常規燒結，是半導體設備系列中一種新穎的工藝裝備。它設計構思新穎操作方便，結構緊湊。亦可用于其他領域內的真空熱處理，真空釬焊等工藝。下面，小編就為您介紹冷卻水異常和遇到停電時的應急措施。 　　高真空燒結爐冷卻水異常 　　當確認加熱電源已停止。爐外發生漏水，冷卻水量異常時，應盡快采取應急措施，如能保證水量，請繼續保持真空，如不能采取應急措施，保持原狀，確認設備冷卻下來。高真空燒結爐冷卻水發生異常時，設備處于停止狀態，馬上接通緊急用冷卻水。在高溫(超過200℃即視為高溫)時，如果冷卻水停止了，如果不能緊急送水，水冷電極、換熱器、真空室殼體及各泵可能被損壞。 　　高真空燒結爐停電 　　停電時如果斷水，應立即接通高真空燒結爐備用的冷卻水，接通水源。如果在非升溫、加熱和冷卻時，能夠盡快恢復時，重新啟動設備，繼續運轉如需要較長時間，則將設備保持原狀。如果正在加熱和冷卻時，能夠盡快恢復時，重新啟動設備，如果需要較長時間時，則保持原狀，讓設備自然冷卻下來。

　　實驗室用的真空甩帶爐參數介紹 　　實驗室用的真空甩帶爐是專為大學研究所研發設計的用于非晶材料制備的專用實驗儀器。它是用來制備和開發亞穩材料(如非晶態材料)的專用設備，該設備除了具有感應爐的全部特點外，還具有制備塊體金屬非晶及金屬薄帶的功能,適用于各種非晶及微晶材料的研究及實驗工作,，廣泛用于新型稀土永磁材料非晶軟磁材料及納米材料科學的開發與研究。可選配噴鑄功能。 　　下面是實驗室用的真空甩帶爐主要技術參數 　　1.樣品大熔煉量：20g; 　　2.輥輪尺寸：φ200mmx40(不帶水冷); 　　3.銅棍速度：1-3000r/min; 　　4.真空度：優于5x10-4Pa; 　　5.真空甩帶爐熔煉電源功率：7KW; 　　6.熔煉溫度：500℃-1700℃，滿足絕大多數實驗要求; 　　7.熔煉坩堝：氮化硼及石英; 　　8.條帶寬度：1-10mm; 　　9.真空腔尺寸：300×300×480mm(L*W*H) 　　10.真空甩帶爐尺寸：620*560*780m（L*W*H） 　　11.標配：主機及感應熔煉電源 　　12.真空熔煉爐桌面式設計，占地空間小，特別節約實驗空間和能源